多弧離子鍍膜設(shè)備是一種高效、無害、無污染的離子鍍膜設(shè)備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設(shè)備操作簡單、成本低、生產(chǎn)量大的優(yōu)點(diǎn)。真空電弧離子的原理是基冷陰極自持弧光放電結(jié)合脈沖技術(shù)及磁控濺射技術(shù)，使沉積粒子細(xì)化，膜層的各項(xiàng)性能得以提高。它不僅能在金屬制品表面進(jìn)行鍍膜而且能在非金屬制品表面制品上進(jìn)...  詳細(xì)介紹>>